10月15至16日，第八届国际先进光刻技术研讨会在南湖畔召开，来自国内外众多科研机构、高校、名企的近600位专家学者、企业家、青年学者齐聚一堂。研讨会以专家学者作特邀报告和现场交流探讨的形式，展示国际光刻技术最新突破和产业实施方向。

本届国际先进光刻技术研讨会（IWAPS）由中国集成电路创新联盟、中国光学学会、国际光学工程学会（SPIE）主办，中国科学院微电子研究所、南京诚芯集成电路技术研究院有限公司承办，中国科学院大学集成电路学院、广东省大湾区集成电路与系统应用研究院、中国光学学会光刻技术专业委员会、浙江省产投集团有限公司、浙江芯晟半导体科技有限责任公司协办，SIEMENS、ZEISS、南大光电等众多国内外企业提供支持。

作为国内顶级光刻技术研讨会，该大会已成为共享国内外先进光刻技术研发成果、促进相关制造技术研发与应用、开展合作与交流的高端峰会。

光刻设备、工艺、检测与计量、掩模与材料……两天的研讨会上，来自国内外的数十位光刻技术领域的专家学者将依次登台，分享各自在各个前沿课题上取得的新突破和新成果，共同探讨细分领域的解决方案，研讨即将面临的技术挑战。智慧涌流、开放包容的会场氛围令人激动，大量年轻的中外科研工作者、博士研究生到场聆听，了解全球业界动态，寻找更多机会。

光刻技术是微电子制造中至关重要的一环。嘉兴南湖高新区作为南湖区微电子产业的主要聚集地，以南湖微电子产业平台为载体，聚焦发展以半导体关键原材料制造，半导体器件设计、制造、封测，智能终端研发生产应用为特色的微电子产业链，在全省“万亩千亿”新产业平台中名列前茅，目前已集聚上下游企业300余家。2023年，平台完成工业总产值442.3亿元，同比增长10.2%，集聚度77%。一批优秀企业成为南湖区微电子产业的“扛旗者”，涌现了闻泰通讯、斯达半导体等40余家重点链主企业，作为本次大会协办单位之一——浙江芯晟半导体科技有限责任公司就来自嘉兴南湖高新区。

当前，嘉兴南湖高新区围绕强化创新驱动、标志性项目引育、提升全产业链质效、健全要素保障和打造长三角微电子产业化与应用示范区等方面加紧行动，努力把微电子产业打造成具有区域辨识度的“标志性集群”，不断加强与学界、业界的同频共振，以此次会议为桥梁，寻求合作机遇，催生更多新质生产力。